6月4-6日，广明我国（深圳）世界。源行半导体
。将露界半博览会将在深圳世界会议。脸深中心。圳世展举办。导体广明源（展位号
：1。广明4G。源行22）将携172nm等紫外线系列光源、将露界半设备与模组露脸，脸深要点展现172nm准分子光在晶圆光清洗、圳世展半导体基材外表活化及超纯水TOC降解等工艺环节的导体使用解决方案
。

诚邀职业同伴莅临沟通，广明共探172nm等紫外光在。源行半导体制作。将露界半范畴的立异使用，携手敞开协作新篇章  。

观展攻略。

2025我国（深圳）世界半导体博览会。

时刻：2025年6月4-6日 。

地址：深圳世界会议中心14号馆。

展位号 ：14G22。

172nm准分子光立异使用。

助力半导体制作业高质效晋级 。

1晶圆/掩膜版光清洗。

功用：高效去除各类微观有机污染物，完成超净外表。

优势  ：无化学残留、低温无损伤、原子级洁净度  。

使用 ：晶圆、光罩
、掩膜版、显现屏、PET 、。PCB。等的外表有机污染物清洁、封装前预处理、光刻胶去除。

使用作用。

172nm清洁纳米压印模具，进步洁净度 。

2晶圆键合改性。

功用：可快速精准调理外表亲水性以及粘附功用 。

优势：无热效应、快速处理、无化学残留。

使用：薄膜堆积前处理
、。MEMS。封装 、3D封装、晶圆键合、倒装芯片键合、引线键合等。高精度。芯片制作 。 。

使用作用。

照耀后 ，亲水性进步，接触角显着变小 。

3超纯水TOC降解。

功用 ：高效降解超纯水中的总有机碳（TOC） ，洁净度可达ppb级。

优势：无化学增加、在线降解、高效安稳。

使用：半导体晶圆制程 、显现面板出产的超纯水系统。

技能原理。

172nm紫外光可促进水体生成自由基 ，

把有机物快速氧化为CO₂和H₂O。

诚邀莅临，讨论职业新机遇 。

深耕光科技使用研制与制作20多年 ，广明源专心于172nm准分子光源在半导体制作工艺中的立异使用，继续为职业供给高效、牢靠、高性价比的技能解决方案 。

依托专业的流水线设备设计与定制才能，公司可以依据客户需求 ，供给半导体等高端制作制程所需的中心光源部件
、模组及设备，掩盖从试验验证到大规模量产的全流程解决方案，满意不同阶段的出产需求。一起
，依托自主172nm光源技能，助力工业链补链强链，提高国产化代替才能，保证供应链安全与工业系统安稳
。

本次展会，咱们等待与您面对面沟通
，讨论172nm准分子光在半导体制作范畴不同工艺环节中的技能细节与使用经历，共享职业洞见 ，助力半导体制作技能继续优化晋级。